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高密度ITO靶材
产品名称 : 高密度ITO靶材
型号 : 20219914520
材质 : In2O3+SnO2
规格 : 10*3; 18*8; 24*14; 30*10mm
密度 : Relative density: ≥ 99.5%
折射率 : 电阻率≤1.6X10-4 Ω·cm
外观 : 黑色块状
纯度 : 4N
应用 : ITO导电膜,LCD、LED等
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  产品详细:
ITO靶材的生产工艺
1.热等静压法
2.热压法
3.烧结法
 
采用磁控溅射的方法,将ITO靶材溅射到镀膜玻璃或其它基板上形成ITO膜。

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