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产品 > 溅射靶材 > 陶瓷靶材 > 低密度ITO靶材
低密度ITO靶材
产品名称 : 低密度ITO靶材
型号 : 202199141323
材质 : In2O3+SnO2
规格 : 10*3; 18*8; 24*14; 30*10mm
密度 : Relative density: 60±2%
折射率 : 电阻率≤1.6X10-4 Ω·cm
外观 : 绿色片粒
纯度 : 4N
应用 : ITO导电膜,LCD、LED等
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  产品详细:
ITO靶材的生产工艺
1.热等静压法
2.热压法
3.烧结法
 
晶粒度:   5~15µm
电阻率:  1.2×10-4Ω·cm
线胀系数:5.8×10-6K-1

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